大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于哲哲的海外生活的问题，于是小编就整理了1个相关介绍哲哲的海外生活的解答，让我们一起看看吧。
如果中国举全国力量研发芯片和研制光刻机需要多长时间？
你好，我们光刻机方面比国外落后了20年，对于国内光刻机企业还要给予耐心，不能急功近利的。
目前华为卡喉咙的，不一定是鱼刺，还可以是芯片。芯片技术以纳米计算，比鱼刺小很多，但威力高出几百倍。
- 事实上，目前我们想要实现芯片技术的完全自主，光刻机技术是中国目前急需攻克的拦路虎之一。
一、光刻机到底啥东西那么重要？工作原理，比喻“萝卜雕花”
光刻机的工作原理，可以理解为萝卜雕花，只不过是在硅片上雕而已。
具体工作时，硅片表面会覆盖一层光刻胶，用紫外光等光线，透过掩模照射在硅胶表面，光刻胶就会发生反应。
- 通俗点来说，光刻机就是给萝卜雕花的雕刻刀，只是原理比较复杂，才会导致放眼全世界，能生产光刻机的厂商寥寥无几。
目前全球领先的是荷兰的ASML，ASML占据全球80%的市场份额，并且只有ASML能生产7nm及以下的精度光刻机。
二、光刻机到底有多难？想买都买不到
ASML光刻机和氢弹哪个更难搞？其实都很难的。
光刻机就是“半导体工业***上榜明珠”，一台光刻机由上万个部件组成，有人形容光刻机是：
一种***了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。
美国一个工程师说：光刻机的一个小零件，工程师就需要调整高达10年之久，就连尺寸的调整就要高达百万次以上。
ASML即使投入大量研发费用，也未能完全实现自主生产，它仍然要从美国、德国日本等进口小零件。
- 难只是一方面，迭代快就是最大的痛点，基本一年半就迭代一次，这也导致芯片厂商排队购买光刻机，不然就无法造出高端的芯片。
ASML好比一家掌握着独家秘方的私房菜馆，别人不仅轻易学不到秘方，想吃他的菜还得花大钱。
更重要的是，ASML垄断着100%的7nm以下市场，中国想买它还买不到的。
因为1996 年 7 月，美国召集 33 个国家，在奥地利签署《协议》(简称“瓦协” Wassenaar Arrangement)，坊间称这份协定为“来自华盛顿的敌意”，因为协定的主要目的，在于美国要限制他的小伙伴们，把先进技术出口给其他国家。
三、目前中国光刻机到底做的怎么样了？
有人说，我们为何就不会早点开始自主研发，否则也不会如今被卡脖子呢？
其实，21世纪初，中国的芯片技术，落后国外30年到40年，如果那时完全靠自主研发，如今繁荣的数字经济等景象，估计就不会如此快速的落地中国的。
当然，目前国产光刻机制造商，也在快步追赶中。
2019年4月，武汉光电国家研究中心团队，***用二束激光，在自研的光刻胶上，突破光束衍射极限的限制，并使用远场光学的办法，光刻出最小 9nm 线宽的线段。
最终该光刻机实现了材料、软件和零部件的三大国产化。
2020年初，中科院对外公布已经攻克了2nm工艺的难题，相关研究成果已经进入国际电子领域期刊。
5 月 19 日，上海微电子装备（集团）股份有限公司称，其自研的高亮度 LED 步进投影光刻机，是中国首台面向 6 英寸以下中小基底先进光刻应用领域的光刻机产品，已从 1200 多个申报项目中成功突围，入选“上海设计 100+”。
目前，已经有这些成果和进步是值得开心的，可是，这与国际先进水平仍然有一定的差距。
在2018年中兴***前，很多欧美人都在夸赞新中国的“四***明”，比如手机支付等有多快多便捷等。
可是等到中兴***发生后，我们总算知道光刻机仍然需要多进步才行。这就好比如：
明明是在别人的地基上盖了房子，非说自己有完全、永久产权。
这就是光刻机和芯片作为底层地基架构的重要性，我们要重新自主建起来。
总之，对于中国的光刻机和芯片，我们还是能够感受到中国速度，如此让人惊叹，但是我们还是要保持速度与质量齐头并进，才能走的扎扎实实，这就是我的观点，谢谢。
现在我们本身就已经在进行举国之力研发光刻机了，至于芯片研发和代工生产靠举国之力也是可行的。
举国之力研发光刻机：前阶段有消息称上海微电子即将研制出28nm节点光刻机，这台全新的设备可以算得上是举国之力，因为其中的核心子设备都是有国内各个团队来研发的。
- 进入国家规划：28nm光刻机是我国十三五项目之一，这种从战略角度规划的方式就已经注定相关技术研发是***取举国之力。
- 成立专项组：在整个项目的执行中，中科院才牵头组织了02专项项目组，协调国内各个研发机构技术攻关光刻机核心子系统，清华研发双工件台、浙江大学解决浸液系统，长春光机所解决光源等。
- 现有进度情况：目前以上研发团队都已经攻克了相关的核心子系统，对应的子系统设备也已经让一些专业厂商进行产业化生产（部分工厂还在加紧建设，下图为浙江启尔机电产业化生产浸液系统项目评审）。
28nm光刻机如果能如期下线，那芯片代工厂商就可以通过多重曝光技术实现11nm，乃至7nm芯片的制造。
当然，28nm节点的光刻机和荷兰ASML最先进的7nm EUV光刻机差不多还是挺大的，未来我们还需要在EUV相关技术领域进行突破。目前技术攻关工作已经在进行中了，比如长春光机在研发EUV曝光机。
至于时间要多久，个人预估至少还得5~10年吧！
芯片的研发需要更长时间：目前国内芯片研发厂商其实挺多，龙芯、兆芯、海光、申威、展讯、海思，这些厂商已经在各种架构上进行CPU的研发，但是从性能和整体角度来说，发展还是比较落后的。
以上这些企业可以说能解决我们芯片有没有的问题，但在一些主流架构上过于依赖美国的指令集和架构，需要尽快用自研架构代替。
因此，在芯片性能上想要全面追赶上美国，类似的电脑芯片达到现在Intel、AMD这样的性能，估计也得5-10年时间。
Lscssh科技官观点：综合来说，如果仅仅从研发芯片和光刻机这两个领域来看，我国的想要追上国外先进水平，5~10年还是需要的。但是，芯片领域整个产业不仅仅只有芯片制造和制造设备，还有芯片设计涉及到软件产品，而这块我们的差距更大，或许要10-20年才有可能追赶上，除非出现弯道超车这种情况，这里就不具体展开说了。
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到此，以上就是小编对于哲哲的海外生活的问题就介绍到这了，希望介绍关于哲哲的海外生活的1点解答对大家有用。
